www.servisautomatizace.cz automatizace, outsourcing a servis výkonové elektroniky


Vakuová technika, mazání tuhými mazivy

PVD-vybavení u GMN
Moderní magnetronová Sputter-PVD-Technologie s nanášecí komorou optimalizovanoupro aplikace s valivými ložisky.
Držáky na míru pro účinné nanesení na komplexních 3-dimenzionálních površíchbez mechanických manipulátorů.

Vlastnosti a přednosti PVD-nanášen:
Obecně: možnost nanesení velké řady materiálů, jako kovů, polovodičů nebo keramiky nehledě na teplotu tání nebo na tlak páry.
nanášení vrstev bez překročení kritické teploty substrátu.
rovnoměrné tloušťky vrstev vysoké přilnavosti při vysokém tempu růstu Wachstumsraten.
tloušťky vrstev od několika málo nanometrů (10-9 m) do několika mikrometrů (10-6 m).
minimalizace chemického odpadu


Festschmierstoffe für unsere Wälzlageranwendungen:
Stříbro (Ag),
Ocel (Pb)
Zlato (Au)
molybdendisulfid (MoS2)

Haftschicht- bzw. Co-gesputterte Materialien pro stabilizaci funkční vrstvy:
CrNi-legierter Stahl
měď
titan


Fyzikální princip
Pro nanášení tenkých vrstev na substráty kuličkových ložisek je rozprašováno tuhé mazivo v magnetronovém rozprašovači v proudu pracovního plynu (zpravidla argonu) a to se pak zachytí na záporně nabité katodě (substrátu kuličkového ložiska)

 

Prostřednictvím vysoké energie takto vymrštěných částic budou povrchové atomy cílového substrátu nastříknuty rovnoměrně ze všech stran atomy maziva, které po následné kondenzaci vytvoří tenký film.

Dodatečným mřížkovým napětím mohou být ionizované částečky urychlovány ve směru k substrátu, který má být jimi potažen a přichycení výsledné vrstvy je pak pevnější.




Plazmové čištění
Před nanášením vrstvy musí být díly kuličkového ložiska očištěny, aby se vytvořilreaktivní čistý kovový povrch. K tomuto účelu je v GMN k dispoziciplazmové čistící zařízení. Po mytí nebo krátkovlnném předčištění budou díly usušenyve vakuu a nakonec budou vyčištěny v kyslíkové plazmě.